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真空鍍膜的特點(diǎn)表現為哪幾點(diǎn)?

發(fā)布時(shí)間:2022-06-01 17:08:40訪(fǎng)問(wèn):10248

        真空電鍍是在真空環(huán)境下,蒸發(fā)金屬,使其氣態(tài)化后并附著(zhù)到產(chǎn)品表面,形成一層均勻的薄膜的工藝。通過(guò)這個(gè)方法,不僅可以增強產(chǎn)品的抗腐蝕性、美觀(guān)性等。還可以節約成本、減少能源消耗。下文,我們具體介紹下真空鍍膜的特點(diǎn)。

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  1.真空鍍膜所鍍的金屬膜層是需要比較薄的,應該在0.01-0.1微米,并且可以嚴格的復制出鍍件表面的形狀

  2.真空電鍍的工藝使用電壓不是很高,應該在200V,工藝流程比較簡(jiǎn)單

  3.工藝所使用的蒸鍍鍋瓶的容積比較小,電鍍件的出數件比較少,生產(chǎn)效率比較低

  4.真空鍍膜工藝只限于比鎢絲熔點(diǎn)比較低的金屬,如鋁、銀、銅、金等等鍍件飾品

  5.真空鍍膜的工藝質(zhì)量要求比較高,電鍍之前須要打底油來(lái)彌補工件表面存在的一些不足

  6.真空鍍膜工藝可以鍍的塑料件材質(zhì)有許多,包括ABS、PE、PVC等等

  以上六點(diǎn)就是真空鍍膜的特點(diǎn)介紹啦,希望對大家有所幫助!如需了解跟多咨詢(xún),歡迎持續關(guān)注本公司新聞!


本文標簽:真空鍍膜
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