多功能真空鍍膜機是一種混合設備，它采用磁控濺射、多弧離子和蒸發(fā)鍍膜的技術(shù)。在多弧離子鍍膜機的基礎上，該設備還配備了圓柱形靶或平面磁控管靶。這個(gè)設備的特點(diǎn)是具有高電離率和快速堆積速度的離子鍍技術(shù)，以及低溫和高穩定性的磁控濺射技術(shù)。因此，它適用于各種復合膜的鍍覆。如果想了解更詳細的信息，可以了解多功能真空鍍膜機-磁力控制、中頻、多弧離子鍍膜。
蒸發(fā)和磁控濺射相結合的設備：
這款產(chǎn)品具備多種功能，適用于大批量生產(chǎn)，并具有高度適應性。
磁控濺射和多弧離子鍍的混合應用：
增加火炮的多弧功能可以提高清洗質(zhì)量，增強薄膜與基體的附著(zhù)力。與磁控濺射同時(shí)運作可以制造出復合膜，高能離子源在清潔和活化方面起到快速成膜的作用。
利用中頻磁控濺射靶和柱弧離子鍍相結合的技術(shù)，進(jìn)行混合應用。
中頻靶材如鋁更為穩定，具有高電離速率、快速堆積速率和均勻成膜。
采用中頻反應濺射技術(shù)，可將SiO2和TiO2等不同材料的多層薄膜堆疊在一起。
采用射頻、直流、中頻和柱弧的混合應用：
RF可以直接涂覆絕緣保護膜，例如SiO2/Ag/SiO2。
重寫(xiě)：
可以直接在RF上涂覆絕緣保護膜，一種常見(jiàn)的組合是SiO2/Ag/SiO2。
使用圓柱形電極、中頻電源和多弧放電技術(shù)的混合應用：
柱弧技術(shù)可以保證高電離率的結合，降低了大顆粒沉積的比例，從而實(shí)現了優(yōu)良的附著(zhù)力和表面光潔度效果。
